近日，美國商務部工業(yè)安全局（BIS）發(fā)布了一項最終規(guī)則，為BIS的《出口管理條例》（EAR）商務管部管制清單（CCL）添加了六種最近開發(fā)或開發(fā)中的技術。美國商務部在官網(wǎng)發(fā)文表示，此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰(zhàn)略。

商務部長威爾伯·羅斯（Wilbur Ross）稱，“關鍵技術和新興技術國家戰(zhàn)略是保護美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟事務中保持技術領先地位的重要戰(zhàn)略部署。美國商務部已經(jīng)對 30 多種新興技術的出口實施了管控，我們將繼續(xù)評估和確定未來還有哪些技術需要管控?！?/p>

據(jù)悉，目前列在商業(yè)管制清單上的六項新興技術具體為以下幾項：

1．混合增材制造 ／ 計算機數(shù)控工具

2．用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術軟件

3．用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術

4．規(guī)避計算機上身份驗證或授權控制并提取原始數(shù)據(jù)的數(shù)字取證分析工具

5．用于監(jiān)視和分析通過轉接接口從電信服務供應商處獲取的通信及元數(shù)據(jù)的軟件

6．亞軌道航天器

芯片相關技術首當其沖

不難發(fā)現(xiàn)，美國實施出口管制的六大技術中，芯片相關技術首當其沖，包括“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術軟件”、“用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術”兩項。

具體來看，美國出口管制的兩大芯片技術都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關，尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機的重要性可想而知。

其中，“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維（3D）效應、掩模陰影效應、光照方向效應、遠距離眩光效應、鄰近效應、抗蝕劑中的隨機性效應以及源掩模優(yōu)化有關的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；

而“用于為 5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術”旨在應用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對直徑300 mm的硅晶圓進行切片、打磨和拋光以達到某些標準所需要的技術，以及盡量減小平坦度（或SFQR）和表面缺陷的技術以及局部光散射體（LLS）。以上兩類技術都受到國家安全和反恐管制的約束。

眾所周知，目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國際集團（MSCI）和貝萊德集團（BlackRock， Inc．）都是美國公司，其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。

在這個關鍵時期挑這兩項技術進行出口管制，美國想限制的對象是誰，自然不用多說。從目前來看，美國的出口管制對中國市場的影響是巨大的，作為美國芯片相關產(chǎn)品最大的采購國之一，國內(nèi)不少芯片廠商都受到了不小影響。

限制出口，損人不利己

雖然打著“保護本國關鍵及新興技術”的旗號，美國的出口限制措施實際上卻對多方產(chǎn)生了不利影響。除了需要遵守出口管制法規(guī)的對象以外，任何美國企業(yè)只要設計、測試、制造、開發(fā)、生產(chǎn)或制造任何新管制的產(chǎn)品，并接受外國投資，都必須向美國外國投資委員會（CFIUS）提交強制性備案，如果未提交強制性備案，可能會受到重罰。

這項管制措施的出臺也對美國自身的經(jīng)濟和技術發(fā)展也產(chǎn)生了重大影響，據(jù)美國信息技術與創(chuàng)新基金會公布的一份資料顯示，該技術出口管制法案一些限制性的措施可能會嚴重阻礙美國先進技術產(chǎn)業(yè)的競爭力，并限制它們的產(chǎn)出、出口和阻礙就業(yè)增長。就如同此前華為收到美國制裁禁令期間，不少美國芯片廠商集體請求恢復對華為的合作，嚴苛的管制和審查不僅沒有讓美國“強大”起來，甚至招來不少反對的呼聲。