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ASML表示DUV光刻機(jī)系統(tǒng)不需要向美國(guó)申請(qǐng)出口許可

ss ? 來源:柏銘007 ? 作者:柏銘007 ? 2020-11-09 11:40 ? 次閱讀
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全球最大的光刻機(jī)企業(yè)ASML表示DUV光刻機(jī)系統(tǒng)不需要向美國(guó)申請(qǐng)出口許可,它將向中國(guó)大量出售DUV光刻機(jī),在中國(guó)建立合資工廠,強(qiáng)化與中國(guó)加強(qiáng)合作,這被視為它向中國(guó)釋放善意。

中國(guó)最大的芯片制造企業(yè)中芯國(guó)際已投產(chǎn)14nmFinFET工藝,上海華虹已投產(chǎn)28nm工藝,ASML此時(shí)表示可以向中國(guó)大量出售DUV光刻機(jī),這有助于中國(guó)的芯片制造廠迅速擴(kuò)張產(chǎn)能。

中國(guó)是全球最大制造國(guó),除了對(duì)先進(jìn)工藝有需求之外,確實(shí)也對(duì)較為落后的14nmFinFET、28nm等工藝有龐大需求,例如路由器、電視芯片、空調(diào)芯片等都可以以這些較為落后的工藝生產(chǎn),可以幫助中國(guó)增強(qiáng)自主研發(fā)能力。

目前中國(guó)也在加快模擬芯片的發(fā)展,國(guó)產(chǎn)模擬芯片占中國(guó)需求的比例只有10%左右,中國(guó)迅速加快模擬芯片的發(fā)展也需要大量購(gòu)買這些DUV光刻機(jī)開發(fā)自己的芯片制造工藝。等等這些都說明ASML在此刻釋放善意,對(duì)中國(guó)有重大的支持意義。

不過ASML有許多元件需要從美國(guó)進(jìn)口,業(yè)界專家表示它不能違反“瓦森納協(xié)議”,研發(fā)7nm及更先進(jìn)工藝所需要的EUV光刻機(jī)依然無法向中國(guó)出口,這對(duì)中國(guó)的支持實(shí)在有限。

值得注意的是ASML三季度公布的業(yè)績(jī)顯示它有66%的利潤(rùn)來自技術(shù)先進(jìn)的EUV光刻機(jī),如此一來依靠EUV光刻機(jī)提供的豐厚利潤(rùn),它完全可以依賴EUV光刻機(jī)的豐厚利潤(rùn)以價(jià)格戰(zhàn)在DUV光刻機(jī)市場(chǎng)壓制中國(guó)光刻機(jī)企業(yè),ASML在這個(gè)表示向中國(guó)大量出口DUV光刻機(jī)有可能存有打壓中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的考慮。

中國(guó)如今已認(rèn)識(shí)到發(fā)展光刻機(jī)的重要性,因此正積極扶持國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè),然而受限于技術(shù),中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)研發(fā)的當(dāng)然是技術(shù)較為落后的DUV光刻機(jī),如果中國(guó)的芯片企業(yè)不采購(gòu)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)也就無法積累技術(shù)和資金研發(fā)技術(shù)更先進(jìn)的EUV光刻機(jī),這對(duì)于中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)可謂毀滅性的影響。

如果ASML一直受制于相關(guān)的限制無法向中國(guó)供應(yīng)技術(shù)先進(jìn)的EUV光刻機(jī),而中國(guó)自己的光刻機(jī)企業(yè)又無法研發(fā)出EUV光刻機(jī),那么中國(guó)的芯片制造企業(yè)就一直都只能止步于7nm工藝,而中國(guó)大陸以外的芯片制造企業(yè)如今已投產(chǎn)5nm工藝,未來更先進(jìn)的工藝也在加速發(fā)展,中國(guó)的芯片制造工藝只會(huì)越來越落后。

綜上所述,ASML在這個(gè)時(shí)候宣布向中國(guó)大量出口光刻機(jī),固然顯示了它的善意,但是對(duì)于中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)和芯片制造產(chǎn)業(yè)來說卻未必是好事,它此舉很可能是為了保持自己的技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì),而中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)將可能因此而導(dǎo)致長(zhǎng)遠(yuǎn)利益受損。

責(zé)任編輯:xj

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