臺積電2nm芯片用什么技術 臺積電2nm芯片在哪里建廠
在2022年北美技術論壇上，臺積電公布了未來工藝制程的路線和2NM的相關信息，那么臺積電的2nm芯片用什么技術呢？又在哪里建廠生產(chǎn)2nm芯片呢？
臺積電2nm芯片將廣泛使用EUV光刻技術，將使用基于納米片的柵極全方位場效應的節(jié)點晶體管（GAAFET）。
臺積電稱，此項技術能夠讓設計人員在相同功耗的條件中，將性能提升10%至15%，在相同的速度中，功耗降低25%至30%，同時，與N3E節(jié)點相比，芯片密度增加了1.1倍以上。
據(jù)媒體報道，臺積電已經(jīng)啟動了竹科寶山二期的2nm晶圓廠Fab20建廠計劃，未來將成為2nm芯片生產(chǎn)重鎮(zhèn)，有業(yè)內人士透露，臺積電Fab20廠區(qū)將分為第一期到第四期、共建設4座12英寸晶圓廠，預計2024年下半年開始風險性試產(chǎn)，2025年開始量產(chǎn)。
審核編輯：chenchen
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