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采用EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法制備金剛石厚膜，在反應氣體（CH4+H2）中添加乙醇，在保持其它條件不變的情況下研究了不同乙醇流量對金剛石膜生長的影響。利用拉曼光譜和SEM等測試方法對金剛石膜進行了表征，證實乙醇電離時產(chǎn)生的氫氧鍵對金剛石有很強的刻蝕作用。在沉積過程中向系統(tǒng)中加入乙醇對金剛石膜表面形貌有顯著的影響，適量的乙醇有利于提高膜品質(zhì)和生長速率，但過量的乙醇會導致對金剛石表面的刻蝕加劇，使金剛石膜的生長受到抑制。
關鍵詞：乙醇；金剛石膜；生長速率；刻蝕
金剛石膜具有優(yōu)異的力學、電學、光學和熱學性質(zhì)，在高科技領域有非常廣泛的應用前景。近年來對金剛石膜生長的研究得到了全面的迅速的發(fā)展[1]，金剛石膜生長工藝的研究也日趨成熟，在某些領域已達到了工業(yè)化的要求。為了提高金剛石膜的品質(zhì)、生長速率，降低制備成本，目前仍有許多人在從事金剛石膜的生長特性、結晶特性以及反應室內(nèi)部條件對金剛石生長影響的研究。Kadono等認為乙醇的加入有利于提高金剛石膜的生長速率[2]，Ma ZB等認為乙醇的加入提高成核密度，降低金剛石生長的襯底溫度[3]。作者采用EA-CVD方法研究較高襯底溫度下乙醇對金剛石厚膜的生長速率、表面形貌的影響和乙醇對金剛石相的刻蝕。
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