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標(biāo)簽 > 芯片制造
《芯片制造》是2010年8月1日電子工業(yè)出版社出版的圖書(shū),作者是(美國(guó))贊特。本書(shū)介紹了半導(dǎo)體工藝的制作制程、誕生、發(fā)展、半導(dǎo)體材料和化學(xué)品的性質(zhì)等方面闡述。
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芯片或集成電路在20世紀(jì)50年代末開(kāi)始取代體積龐大的單個(gè)晶體管。許多這些微小的部件是在一塊硅上生產(chǎn)的,并連接在一起工作。產(chǎn)生的芯片存儲(chǔ)數(shù)據(jù)、放大無(wú)線電信...
前段工藝(Front-End)、中段工藝(Middle-End)和后段工藝(Back-End)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的三個(gè)主要階段,它們?cè)谥圃爝^(guò)程中扮演著不...
芯片廠為什么要使用超純水? 普通的水中含有氯,硫等雜質(zhì),會(huì)腐蝕芯片中的金屬。如果水中有Na,K等金屬雜質(zhì),會(huì)造成MIC(可動(dòng)離子污染)等問(wèn)題。因此芯片制...
2023-06-29 標(biāo)簽:芯片制造半導(dǎo)體器件半導(dǎo)體制造 2637 0
用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹
? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)...
總體而言,從現(xiàn)在到2023年,汽車(chē)應(yīng)用半導(dǎo)體市場(chǎng)預(yù)計(jì)將出現(xiàn)7%的復(fù)合年增長(zhǎng)率,市場(chǎng)價(jià)值將從350億美元增加到540億美元。在ADAS/自動(dòng)駕駛/車(chē)載信息...
2018-06-05 標(biāo)簽:芯片制造 2479 0
ASIC設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)流程介紹 CMOS集成電路的功耗來(lái)源
集成電路是由硅晶圓(wafer)切割出來(lái)的芯片(die)組成的。每個(gè)晶圓可以切割出數(shù)百個(gè)芯片。
基于深度學(xué)習(xí)的芯片缺陷檢測(cè)梳理分析
雖然表面缺陷檢測(cè)技術(shù)已經(jīng)不斷從學(xué)術(shù)研究走向成熟的工業(yè)應(yīng)用,但是依然有一些需要解決的問(wèn)題?;谝陨戏治隹梢园l(fā)現(xiàn),由于芯片表面缺陷的獨(dú)特性質(zhì),通用目標(biāo)檢測(cè)算...
2024-02-25 標(biāo)簽:機(jī)器視覺(jué)芯片制造芯片缺陷 2364 0
在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻O(píng)verlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)...
ASML 稱之為超數(shù)值孔徑的研發(fā)正在進(jìn)行中,因此更具體的光學(xué)器件,尚不清楚它是否會(huì)起作用。距生產(chǎn)還有 10 年的時(shí)間,但這正是研發(fā)已經(jīng)在進(jìn)行的地方,如果...
請(qǐng)問(wèn)丙酮在芯片制造中有什么作用呢?丙酮怎樣防護(hù)?
丙酮在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮關(guān)鍵作用,是不可或缺的清洗劑。它憑借出色的溶解能力和揮發(fā)性,助力芯片制造流程的順利進(jìn)行。
光源掩模協(xié)同優(yōu)化的原理與應(yīng)用
由于SMO優(yōu)化的結(jié)果是要應(yīng)用到整塊芯片上去的,而對(duì)所有的圖形進(jìn)行SMO是極為耗時(shí)的,因此,我們需要使用關(guān)鍵圖形篩選技術(shù)提前將重復(fù)或者冗余的圖形剔除,以保...
氯氣,我們?cè)诔踔谢瘜W(xué)中已經(jīng)接觸過(guò),知道它是一種劇毒氣體,但是在芯片制造中,氯氣卻是一種十分重要的氣體。
2023-11-13 標(biāo)簽:芯片制造 2105 0
對(duì)于電子設(shè)備來(lái)說(shuō),它藏在內(nèi)部,又非常重要,相當(dāng)于汽車(chē)的發(fā)動(dòng)機(jī)、人的心臟,所以叫“芯”。從形態(tài)來(lái)看,它是一片一片的,所以叫“片”。合起來(lái),就是“芯片”。
2024-01-15 標(biāo)簽:集成電路芯片制造半導(dǎo)體芯片 2080 0
在曝光過(guò)程中,掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機(jī)的縮放比為1:1,分辨率可達(dá)到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離,隨著曝光次數(shù)...
晶圓級(jí)封裝技術(shù)可定義為:直接在晶圓上進(jìn)行大部分或全部的封裝、測(cè)試程序,然后再進(jìn)行安裝焊球并切割,從而產(chǎn)出一顆顆的IC成品單元。
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